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Für den gehobenen Leica-Sammler


halo

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Also bitte, der Sonder-Substrathalter darf doch bei Leica kein Problem sein! Wo wir doch auch für unsere Vorkriegsleicas noch eine Lagerhaltung jeweder Schräubchen, gleich ob verchromt oder vernickelt, erwarten.

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Die Frage ist wohl eher, was der Anbieter bietet, damit o.a. geneigter Sammler das Kleinteil nimmt.

Naja, es gibt ja seit einiger Zeit die Verpflichtung des Handels zur Rücknahme von Elektrogeräten.

Die Braunschweiger werden das Ding ja nicht gerade bei Amazon gekauft haben. Somit sollte die Entsorgung als Grund der Auktion eher ausfallen.

Kritisch für den Käufer könnte allerdings die Säuberung es Standplatzes im Reinraum werden.......

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Jetzt weiß ich auch, was da verscherbelt werden soll! (Ehrlich gesagt, ich verstehe nicht mal "BAhnhof :-((( )

 

 

Leica Lithographie Systeme Jena (Jenoptik) LION

One of the most unique Gaussian vector scan systems is the LION-LV1 from Leica Lithographie Systeme Jena GmbH,[55] a company better known for its large mask making machines (previously sold only in Eastern Bloc countries). The LION-LV1 combines a column designed by ICT GmbH (Heimstetten, Germany) with the pattern generator from Raith GmbH. This pattern generator has the unusual feature that it allows "continuous path control" of curves. In this mode the beam is held close to the center of the field while stage motion defines the shape of a Bezier curve. The ICT column is very similar to that used in the Leo 982 SEM, [51] except for the use of a beam blanker and higher bandwidth deflection coils (see Fig. 2.20). In this system, proximity effects are avoided by using beam energies as low as 1 to 2 keV. Although the voltage may be set as high as 20 kV, the system's selling point is low voltage -- avoiding both damage to the substrate and complications due to the proximity effect.

The column provides a spot size as small as 5 nm at 1 kV, through the use of an unusual compound objective lens. An electrostatic lens produces a diverging field, while the surrounding magnetic lens converges the beam. The complementary lenses reduce chromatic aberration, just as in a compound optical lens. A high resolution automated stage, substrate cassette loader, and substrate height measuring system complete the LION-LV1 as a full-featured system.

Low voltage operation avoids substrate damage and proximity effects, and offers the capability of three dimensional patterning by tailoring the electron penetration depth. However, the disadvantage is in greatly complicated resist processing. If the beam does not penetrate the resist, there will be significant effects from resist charging, [56] and placement errors due to charging may be dependent on the writing order and on the shape of the pattern itself. Charging may be avoided by using a resist trilayer with a conducting center (e.g., PMMA on Ti on polyimide), or by using a conducting overlayer (see sect. 2.7.1). Increased processing is required also for removing the resist layer over alignment marks. In a production environment this complexity adds significantly to the cost of ownership.

 

spiefig20.jpg 
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Kritisch für den Käufer könnte allerdings die Säuberung es Standplatzes im Reinraum werden.......

Wenn der Erwerber das Ding tatsächlich mal in Betrieb nehmen möchte, sollte die Reinlichkeit das geringere Problem sein. Erst mal würde ich vor dem beim Betrieb entstehenden üppigen Quantum Röntgenstrahlung in Deckung gehen wollen, bzw. sicherstellen, dass ein gefahrloser Betrieb gewährleistet ist. Wer weiß was da inzwischen im Sinne der Ersatzteilbeschaffung oder so aus- oder abgebaut worden ist.

Edited by wpo
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Jetzt weiß ich auch, was da verscherbelt werden soll! (Ehrlich gesagt, ich verstehe nicht mal "BAhnhof :-((( )

 

 

Leica Lithographie Systeme Jena (Jenoptik) LION

One of the most unique Gaussian vector scan systems is the LION-LV1 from Leica Lithographie Systeme Jena GmbH,[55] a company better known for its large mask making machines (previously sold only in Eastern Bloc countries). The LION-LV1 combines a column designed by ICT GmbH (Heimstetten, Germany) with the pattern generator from Raith GmbH. This pattern generator has the unusual feature that it allows "continuous path control" of curves. In this mode the beam is held close to the center of the field while stage motion defines the shape of a Bezier curve. The ICT column is very similar to that used in the Leo 982 SEM, [51] except for the use of a beam blanker and higher bandwidth deflection coils (see Fig. 2.20). In this system, proximity effects are avoided by using beam energies as low as 1 to 2 keV. Although the voltage may be set as high as 20 kV, the system's selling point is low voltage -- avoiding both damage to the substrate and complications due to the proximity effect.

The column provides a spot size as small as 5 nm at 1 kV, through the use of an unusual compound objective lens. An electrostatic lens produces a diverging field, while the surrounding magnetic lens converges the beam. The complementary lenses reduce chromatic aberration, just as in a compound optical lens. A high resolution automated stage, substrate cassette loader, and substrate height measuring system complete the LION-LV1 as a full-featured system.

Low voltage operation avoids substrate damage and proximity effects, and offers the capability of three dimensional patterning by tailoring the electron penetration depth. However, the disadvantage is in greatly complicated resist processing. If the beam does not penetrate the resist, there will be significant effects from resist charging, [56] and placement errors due to charging may be dependent on the writing order and on the shape of the pattern itself. Charging may be avoided by using a resist trilayer with a conducting center (e.g., PMMA on Ti on polyimide), or by using a conducting overlayer (see sect. 2.7.1). Increased processing is required also for removing the resist layer over alignment marks. In a production environment this complexity adds significantly to the cost of ownership.

 

spiefig20.jpg 

 

 

Aha!

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....ich dachte eher an die Säuberung des Braunschweiger Reinraumes. Ist im Angebot erwähnt, dass das dazugehört....

Das ist mir beim genaueren lesen auch klar geworden. Man soll halt genau hingucken :-( es macht auf mich an bisschen den Eindruck, als wäre dies ein aufwendiges Unterfangen und man sucht jemanden, der dies kostengünstig und reklamierfähig übernimmt, idealerweise auch noch für das Entsorgungsgut zahlt und in Sachen Betriebsfähigkeit und -sicherheit keine Ansprüche stellen darf. Fähige Leute in der Verwaltung hat man da, muss ich schon sagen :-)))))

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Man hat mir Anfang der 90er in Jena mal das aufwändigste Objektiv gezeigt, das man bei Zeiss Jena gebaut habe. Ein etwa einen halben Meter langer Klotz, der zum Belichten von Chipstrukturen für Masken bei der IC-Fertigung benötigt wurde. Ich denke, das obige Gerät dient dem gleichen Zweck, nur dass mit einem Elektronenstrahl gearbeitet wird, was wohl eine noch feinere Auflösung ermöglicht.

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... es macht auf mich an bisschen den Eindruck, als wäre dies ein aufwendiges Unterfangen und man sucht jemanden, der dies kostengünstig und reklamierfähig übernimmt, idealerweise auch noch für das Entsorgungsgut zahlt und in Sachen Betriebsfähigkeit und -sicherheit keine Ansprüche stellen darf......

 

Genau das ist auch meine Interpretation der ganzen Geschichte!

 

Gruß aus Stuttgart

 

Tom

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Ich finde, Du solltest lieber das "Bereisungsschiff 'Müggelsee' " nehmen und uns zu Leica-Törns einladen.Oder ist die Dame Deines Herzens so abweisend, dass Du glaubst, ein Eisbrecher sei das Richtige für Dich / für Euch? B)

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